超纯水(UPW)是半导体制造过程中不可或缺的关键材料,其纯度直接影响芯片的良率与性能。随着集成电路技术节点不断微缩,对超纯水中颗粒物的控制与检测要求也日益严格。

半导体晶圆制造过程中,每平方厘米硅片需消耗10–20升超纯水,用于清洗、蚀刻、光刻等关键工艺。超纯水须达到亚ppb(十亿分之一)甚至亚ppt(万亿分之一)级别的纯度,任何微量污染物都可能导致器件失效,如桥接、短路、光刻胶损伤、CMP划痕等缺陷。

超纯水系统通过多阶段处理确保水质符合半导体工艺要求:


Vertex50是一款市场上较为小巧的50纳米液体颗粒计数器,配备3.5英寸TFT触摸屏,操作界面简洁直观。该设备由Lighthouse 公司基于先进技术制造,提供两年保修与全球技术支持。
在抗干扰能力方面,采用Lighthouse先进的光电探测器技术,Vertex50能将光信号噪声与伽马射线干扰降低20倍,显著提升测量的稳定性与可靠性。
设备具备早期检测功能,不依赖计数减法技术,误报率处于行业较低水平。Vertex50在探测到颗粒后立即上报,无需等待计数达到设定阈值,从而大幅提升响应速度。
经实际验证,Vertex50能够在计数发生后120秒内恢复至基线计数水平,有效缩短清理时间,提高运行效率。
根据晶圆线宽不同,超纯水分为多个等级(如E-1至E-4),对应不同的颗粒控制要求。例如:
超纯水系统是半导体制造的“血脉”,其水质直接关系到芯片的成品率与可靠性。随着技术节点不断推进,对超纯水中纳米级颗粒的检测与控制将成为提升良率和保障设备性能的关键。投资高灵敏度颗粒计数器和建立全流程实时监测系统,是现代化晶圆厂不可或缺的质量保障手段。
目前,Lighthouse的监测系统和空气颗粒计数器已成为基因泰克(Genentech)、巴克斯特(Baxter)、辉瑞(Pfizer)、拜耳(Bayer)、诺和诺德(Novo Nordisk)、SPACE X、特斯拉(Tesla)、希捷(Seagate)、台积电(TSMC)、三星(Samsung)、洛克希德·马丁(Lockheed Martin)、微芯科技(Microchip Technology)、美敦力(Medtronic)、3M、波士顿科学(Boston Scientific) 等国际知名企业的标准配置。我们提供业内最全面的污染监测产品线,涵盖空气颗粒计数器、微生物采样器、液体颗粒计数器以及遥感传感器等全套解决方案。这些产品已广泛应用于全球半导体制造、制药生产、数据存储、生物技术、航空航天及国防工业等关键领域。
公司坚持原厂直采模式,所有设备及配件均通过Lighthouse集团工厂直接供货,从源头保障产品品质与供应可靠性。区别于普通代理商,中邦兴业推出了由拥有洁净室认证工程师组成的专业技术团队,严格执行安装前双重校验流程,并构建了覆盖设备全生命周期的服务体系,包括安装调试、技术培训、故障排查、仪器改造维修等增值服务。