半导体制造过程的要求非常高,对有灰尘存在的环境是非常敏感的。无尘室技术可以实现很好的环境控制和有效的过滤作用,使得制造过程不受污染或污染度极低。这为半导体制造工艺的高品质、高效率提供了无限的可能性。
洁净室(Clean Room):具体的功能是控制微粒污染。Fab厂往往按照ISO 14644-1的标准建立,具体分成一级、二级、三级到九级等,等级数越低,颗粒越少。
在MEMS厂中,不同工艺车间对应的洁净度等级通常根据ISO 14644标准进行分类和评估。
光刻车间:光刻车间通常是MEMS制造中最关键的一个工艺步骤,因此对洁净度要求相对较高。一般来说,光刻车间的洁净度等级可能达到ISO 14644-1标准中的Class 5(百级)或更高级别。
沉积/刻蚀车间:在沉积和蚀刻工艺中,洁净度要求相对较高,以确保沉积和蚀刻过程中不会引入外部杂质。这些车间通常符合ISO 14644-1标准中的Class 5(百级)至Class 6(千级)级别。
清洗车间:清洗车间用于清洗制造过程中的器件和基板,以去除残留的杂质和化学物质。由于洁净度要求较高,以确保清洁过程不会引入新的污染,因此清洗车间通常符合ISO 14644-1标准中的Class 5(百级)至Class 6(千级)级别。
封装车间:封装车间用于对MEMS器件进行封装,保护器件并提供外部连接。封装车间的洁净度要求相对较低,因此可能符合ISO 14644-1标准中的Class 6(千级)至Class 7(万级)。
测试车间:测试车间用于对封装后的MEMS器件进行性能测试和质量控制。由于测试过程不会直接影响器件的制造和封装,因此洁净度要求相对较低,通常符合ISO 14644-1标准中的Class 7(万级)或更低级别。
半导体洁净室的主要目的是提供一个高度清洁的生产环境,以减少产品受到污染的风险。以下是洁净室的几个重要洁净要求:
根据ISO14644-3 及新GMP对洁净厂房验收需要对气流方向进行评价。OCEAN ONE气流流形仪可以产生高浓度水雾气(粒径范围:集中度80%以上),高可见度及绝对无污染。当水雾气在洁净室内散发后,没有可测的残留物质。OCEAN ONE可适用于半导体,制药类洁净车间。