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半导体洁净室环境控制(尘埃粒子/微生物/气流)
2024-05

半导体制造过程的要求非常高,对有灰尘存在的环境是非常敏感的。无尘室技术可以实现很好的环境控制和有效的过滤作用,使得制造过程不受污染或污染度极低。这为半导体制造工艺的高品质、高效率提供了无限的可能性。

洁净室的标准?

洁净室(Clean Room):具体的功能是控制微粒污染。Fab厂往往按照ISO 14644-1的标准建立,具体分成一级、二级、三级到九级等,等级数越低,颗粒越少。

不同制程对应的洁净度要求?

在MEMS厂中,不同工艺车间对应的洁净度等级通常根据ISO 14644标准进行分类和评估。

光刻车间:光刻车间通常是MEMS制造中最关键的一个工艺步骤,因此对洁净度要求相对较高。一般来说,光刻车间的洁净度等级可能达到ISO 14644-1标准中的Class 5(百级)或更高级别

沉积/刻蚀车间:在沉积和蚀刻工艺中,洁净度要求相对较高,以确保沉积和蚀刻过程中不会引入外部杂质。这些车间通常符合ISO 14644-1标准中的Class 5(百级)至Class 6(千级)级别

清洗车间:清洗车间用于清洗制造过程中的器件和基板,以去除残留的杂质和化学物质。由于洁净度要求较高,以确保清洁过程不会引入新的污染,因此清洗车间通常符合ISO 14644-1标准中的Class 5(百级)至Class 6(千级)级别。

封装车间:封装车间用于对MEMS器件进行封装,保护器件并提供外部连接。封装车间的洁净度要求相对较低,因此可能符合ISO 14644-1标准中的Class 6(千级)至Class 7(万级)

测试车间:测试车间用于对封装后的MEMS器件进行性能测试和质量控制。由于测试过程不会直接影响器件的制造和封装,因此洁净度要求相对较低,通常符合ISO 14644-1标准中的Class 7(万级)或更低级别

半导体洁净室洁净要求

半导体洁净室的主要目的是提供一个高度清洁的生产环境,以减少产品受到污染的风险。以下是洁净室的几个重要洁净要求:

1. 尘埃粒子数:
半导体洁净室需要控制尘埃粒子的数量,以防止对产品造成不良影响。根据不同的工艺要求,洁净室内的尘埃粒子数应控制在一定的范围内。一般来说,ISO 14644-1级标准要求每立方米空气中直径大于0.1微米的尘埃粒子数不超过3500个。

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便携式激光尘埃粒子计数器
lighthouse便携式激光尘埃粒子计数器Solair系列1100/3100/3350/5100等,其中lighthouse Solair1100 是行业内能够持续使用的 28.3 升 0.1微米感应度的便携式粒子计数器,是半导体行业应用最为广泛的一款型号。

2. 微生物数:
洁净室还需要控制微生物的数量,以防止微生物对产品造成污染。一般情况下,洁净室内的微生物数应控制在每立方米空气中不超过500个。

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浮游微生物采样器
lighthouse浮游菌采样器,基于安德森撞击原理,撞击速度达19m/s,适用于无尘室和无菌环境的微生物采集。连续和周期性的采样,可以完全控制采样周期和间隔。高压撞击头部和消隐不锈钢外壳,确保ActiveCount100不会污染使用环境。使用可选的高压气体取样器(高压扩散器),可直接采集压缩空气的浮游菌。

3. 温度和湿度:
半导体洁净室的温度和湿度需要控制在一定的范围内,以保证产品的稳定性和可靠性。一般情况下,洁净室的温度应控制在22±2℃,湿度应控制在55±5%。

3、室内的噪声级(空态):
不应大于65dB(A)

4、洁净室气流
垂直流洁净室满布比不应小于60%,水平单向流洁净室不应小于40%,否则就是局部单向流了。

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气流流型检测仪
北京中邦兴业自主研发OCEAN ONE气流流型检测仪,主要应用于观察在工作区域里面气流的运动模式,同时也可以观察仪器设备对气流的影响。

根据ISO14644-3 及新GMP对洁净厂房验收需要对气流方向进行评价。OCEAN ONE气流流形仪可以产生高浓度水雾气(粒径范围:集中度80%以上),高可见度及绝对无污染。当水雾气在洁净室内散发后,没有可测的残留物质。OCEAN ONE可适用于半导体,制药类洁净车间。

5、洁净室压差
与室外的静压差不应小于10Pa,不同空气洁净度的洁净区与非洁净区之间的静压差不应小于5Pa。

如果您有关于半导体、生物制药洁净室环境检测、质控方面的问题或需求,可随时联系中邦兴业,专业技术工程师可随时帮您解答。



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